HF腐蚀机

1） 主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,刻蚀后的清洗
2）工艺流程：
上料→HF腐蚀+氮气鼓泡→QDR+氮气鼓泡+喷淋→ 下料→离心机甩干
3）设备采用单臂机械手，其工艺时间可以自行调节。能显示温度曲线、
浓度变化曲线，及各个工位的工作状态。酸槽具有自动补液装置，可
实现无间断生产。具有设备报警说明，报警历史查询功能。对清洗用
纯水有电阻率监测装置，能存储10个以上工艺方案
4）标准工艺下产量：125mm×125mm、156mm×156mm、210mm×210mm
的硅片，厚度为160±30——200±30微米的硅片，硅片产能不低于1200
片/小时，设备开工率＞92﹪，碎片率≤3‰